杏鑫先进设备制造过程控制计量解决方案推出

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杏鑫注册登录【直属QQ304-724】Onto Innovation Inc.宣布了一套用于先进设备制造的过程控制计量解决方案。这套光学计量解决方案是为下一代半导体器件开发的,以实现Gen6、3D NAND、领先的5nm/3nm逻辑和先进的1alpha DRAM器件的高精度、高精度和高生产力解决方案。这一新的计量套件代表了第一个令人兴奋的结果,从Onto Innovation的增强研发团队创建了一个全面的解决方案集,充分利用其在光学计量方面的广泛领导地位,并增强了新的机器学习引擎App的所有这些应用。

市场营销高级副总裁Kevin Heidrich表示:“客户对这些新系统的性能和价值的早期反应让大家非常兴奋。大家的测量数据分析从高级逻辑和内存设备被发现是高度相关客户的计量实验室CD-SEM和TEM等标准,这意味着他们可以继续使用高速光学测量系统而不需要使用明显慢,更昂贵的,x射线技术。”

他继续说,“对于最先进的3D NAND设备,杏鑫代理挑战是测量非常高高纵横比通道孔和字线,纵横比远远大于80:1,迫使客户考虑慢x射线工具和其他破坏性的测量技术。类似地,对于最先进的DRAM和逻辑器件,复杂的晶体管结构和5nm和3nm节点上的新材料使得客户在关键的门-全能/纳米片处理步骤上寻找新的计量方法。Onto Innovation已经开发出平台,推动光学技术达到下一个水平,使其具有高灵敏度和高生产率的优势,以速度和质量为客户提供工艺开发和大批量生产所需的信息。”

3D NAND / DRAM /逻辑计量

新的阿特拉斯五世计量系统被设计用来测量几个关键步骤,包括用CD-SEM和其他技术看不见的埋藏特征。Atlas V计量的灵敏度使这些关键尺寸的测量具有很高的精度和灵敏度,为一代又一代的设备扩展了光学解决方案的能力,并消除了对其他较慢的过程控制技术的需求。

阿特拉斯V技术现在能够实现客户开发的全方位门设备所需的性能,并且比用于这些结构的x射线解决方案快100倍以上。创新企业的客户已经验证了这种新的OCD技术,并且已经看到了一度被认为超出光学技术极限的速度和分辨率。

脉冲V系统,建立在工业领先的可靠性历史上,使更高的生产力和下一代集成计量更高的性能。该系统被设计为与化学机械抛光(CMP)系统无缝合作,杏鑫总代理为关键工艺步骤提供高吞吐量运行-运行控制。冲量V系统使配方与Atlas V系统可互操作性,用于连续生产配方设置和优化。脉冲V技术利用最新的机器学习技术,支撑在设备上的计量,使广泛的灵活性和高过程覆盖,使更高的生产力与更广泛的过程配方覆盖。

3D NAND高级计量

新方面计量系统是一个革命性的光学平台,杏鑫招商专为当前和未来的挑战,先进的3D NAND器件。内存密度随着超过200对的内存堆栈的层对扩展和层堆叠而增加。方面技术的设计考虑到了这些未来的架构和扩展策略。Aspect计量企业通过其革命性的红外光学系统在多种客户设备上展示了优于x射线系统的性能,该系统能够提供完整的剖面分析能力,以满足客户要求的速度和工艺覆盖范围,实现关键的蚀刻和沉积控制。

所有产品均采用ai -绕射造型技术

ai -衍射技术是新解决方案套件的关键组成部分。它是驱动所有这些领先计量系统的App分析引擎。这个新产品现在提供高达90%的时间解决问题,使用ai -衍射引擎,扩展了行业领先的nano衍射®App,利用广泛的机器学习能力和高逼真建模。其结果是同时提高了计量性能,并显著缩短了解决方案的时间。


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  • 版权声明:内容来自互联网不代表本站观点,2020-10-17发表于 加入杏鑫栏目。
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